原问题
 ：把光刻机做成「光刻工场」 ，把光国产妄想的刻机脑洞事实有多大 ？

光刻机行业 ，正爆发着怪异修正。做成

距离华为Mate 60 pro猛然开售已经由去半个月，光刻工场国产线上预订的妄想粉丝们最近都陆续收到了新机。

但由于华为民间不断不召开手机宣告会，脑洞事多因此这款手机上依然有颇为多的把光谜团期待解开。

就好比
，刻机这颗猛然“空降”的做成麒麟9000s处置器，事实算不算5G芯片 ？华为又是光刻工场国产若何在重重封锁下 ，“手搓”这颗纯国产芯片呢？

在这里，妄想咱们就不同过错华为眼前的脑洞事多技术以及妨碍过多预料
，但可能确定的把光是，国产光刻机技术在近期有不小的刻机突破 。

巧的做成是 
，就在最近 ，一项来自清华大学的光刻机技术在收集上火了起来 ，重大来说，便是把光刻机做患上饶富大
，就能破费出EUV光刻机需要的光源。

这样的脑洞，不光路人们听下来玄乎 ，就连良多技术职员也展现了惊叹。

一光阴
，网上的解读以及质疑声也是层出不穷 。

甚么是SSMB

这项由清华大学提出的技术，业余术语名叫“稳态微聚束”（steady-state micro-bunching）
，简称SSMB
，是一种新型的粒子减速器光源。

最先由清华大学卓越碰头教授赵午教授与其博士生于2010年提出，并在2017年，与清华大学工程物理系教授唐传祥相助，配合建议实际试验
。

在2022年的中国物理学会春天学术团聚上，钻研组成员潘志龙提到了由SSMB技术造进去的光刻机，叫作“SSMB-EUV”光刻机，而这也正是最近品评辩说的话题的源头 。

图源 | 寇享学术

SSMB眼前波及的道理颇为重大 ，笔者并不能残缺批注
，以是这里就散漫多少位科普博主的教学视频，重大妨碍一点演绎综合 。

首先，光刻机的道理 ，是运用光刻机收回的光源 ，经由设定好图形的光罩 ，对于涂有光刻机的硅板妨碍曝光 ，从而“刻”出电子路线图 ，再妨碍一些前期加工，最终组成芯片的雏形。

假如光源的波长越短、功率越大，这样的“光刀”就愈加犀利 
，“雕刻”进去的电子路线图也就愈加详尽 ，芯片的功能与算力也就越强
。当初，波长仅为13.5nm的极紫外光（EUV） ，是高端芯片的仅有抉择。

从电磁波谱上看  ，EUV已经颇为挨近X-射线，这么高的能量，单靠物理操作很难实现。

ASML接管的是LPP方式 ，经由一台功率大于20 kW的CO2气体激光器轰击液态锡，组成等离子体，从而发生极紫外光。

图 | LPP-EUV

在找到EUV光源处置妄想后 ，加之多年以来的光刻技术
，ASML做出业内最顶尖的EUV光刻机，最终操作了全部市场。

值患上一提的是 ，为ASML提供EUV技术的是美国公司Cymer ，这是全天下仅有可能提供商用EUV光源的公司 ，国内做作无奈从外部处置光源下场。

不外，实现EUV光源的妄想不止一种，清华大学团队想到了用减速器减速电子 ，从而发生高功率的辐射 。

重大来说，电子惟独减速行动，就会发射电磁波 ，实际上惟独减速率够快 ，那末确定泛起适宜EUV波长的“光子”。

但光有一个“光子”还不够，想做光刻机需要晃动的“光束”  。

钻研职员发现 ，当电子束绕过减速器后，受到磁场的熏染 ，会组成详尽的微妄想，这种便是“微聚束”。

图源 | 《做作》杂志

再让这些微聚束穿入激光阵列，经由激光与电子的相互熏染
，组成有确定距离 ，相对于群集的部署，就这样，微聚束被“稳态”地坚持了 。

就这样，稳态微聚束泛起出极紫外光的高功率与短波长 ，算患上上一种全新的EUV光源处置思绪。

光刻机做成“光刻厂”，靠不靠谱？

批注完SSMB技术 ，光刻厂又是奈何样一回事 ？

在网上，有人把“SSMB-EUV”光刻机称作光刻工场，致使给出了工园地址的地河北雄安新区 ，并贴出了相关图片（注：网传图片为高能同步辐射光源名目，并非SSMB配置装备部署）。

据悉 ，除了3nm工艺外，4nm
、7nm、14nm、28nm，个别你风闻过的芯片制程工艺 ，都能在这个光刻工场里处置
。

图源 | 微博

为了更好地清晰，有人抽象地将光刻工场好比成篮球架——假如说从前最中间的篮筐里（3nm）难度很大
，那末就多加多少个篮筐（其余工艺），惟独投篮次数够多，总能投到最中间篮筐
，而投不进的话 ，掉到其余篮筐里也能患上分。

从道理上来说
，光刻工场以及SSMB技术简直有很大的分割关连性，都是运用电子束减速发生电磁波，从而患上到对于应的波长。由于粒子减速器体积大（减速器周长100-150米），同时需要良多配套配置装备部署，因此占地规模大也颇为个别 。

尽管
，妄想可行，实施起来并无那末简略 。

首先，从民间往事稿看，这次在雄安新区落地的SSMB-EUV光源配置装备部署名目更挨近科研用途，而不是实际破费。

从研发历程来看，SSMB-EUV技术在2021年在《Nature》杂志上正式刊登，经由道理验证实验 ，想在短期内跨过下一步验证 ，走向商用，还要确守光阴。

着实，不论是光刻机仍是光刻工场，光源只是光刻机中的关键配置装备部署之一，其余配套配置装备部署同样不可或者缺 。

作为一种全新的妄想，其余国产替换配置装备部署是否适配SSMB-EUV技术，仍是一个未知数。

最后 ，便是良多人提到的能源破费以及运用老本高的下场，虽而后续可能经由修筑多条破费线将老本摊薄
，但这就需要极强的妄想能耐以及临时经营能耐 。

总之，妄想有了
，思绪有了，光刻工场值患上期待
，但距离实际破费尚有一段距离。

国产光刻机，奋力追赶

如今时隔三年
，SSMB技术再次引起品评辩说，足以看出国人对于国产光刻机的期待。除了此之外
 ，国内尚有其余卓越的EUV光源妄想，好比位于大湾区的广智院 ，就提出了改善型的LPP方式 ，经由绕开二氧化碳激光器这个部件，发生出极紫外光。

但从实际走向实物 ，依然要走简短的道路
，惟独财富链上卑劣的配合 ，能耐真正实现光刻机的突破。除了光源这一关键之外 ，光刻机上卑劣尚有颇为多的关键 ，良多都防止不了来自外界的压力。

另一方面，行业巨头ASML也在光阴凝望着国产光刻机的动向 。

此前 ，日本厂商就在与ASML光刻机的相助中败下阵来 ，最终患上到了先进制程规模 。在ASML的眼前，有着欧美的鼎力反对于 ，这与当初中美相助模式颇为相似。

专神思的是，ASML更像是一个看重短处的贩子 ，纵然顶着制裁的危害 ，但ASML依然黝黑示好中国市场
。

随着国产光刻机奋力追赶 ，ASML的EUV妄想早晚被遇上，光刻机行业概况会爆发一些怪异的修正 。

本文作者
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